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LIF&PLIF診斷系統(tǒng)詳細(xì)介紹

LIF（LaserInducedFluorescence）與PLIF（PlanarLaserInducedFluorescence）是一種廣泛用于液態(tài)、氣態(tài)等物質(zhì)燃燒場中各種組分濃度與溫度場分析的重要分析方法，由于它是采用光學(xué)非接觸式測量，同時(shí)又具有很高的靈敏度以及時(shí)間與空間分辨率，因此很受廣大科研人員的歡迎。LIF&PLIF診斷系統(tǒng)詳細(xì)介紹目前，LIF以及PLIF的主要應(yīng)用領(lǐng)域包括：過程工程學(xué)：例如攪拌器的混合，加熱以及冷卻系統(tǒng)生物醫(yī)藥工程學(xué)流體力學(xué)：擾動(dòng)混合，熱傳遞模型，...

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Ophir高功率激光功率計(jì)快門保護(hù)罩介紹

針對激光加工過程中普遍存在的材料碎屑對功率測量探頭污染與損壞，影響其使用壽命和測量精度的情況，Ophir專門設(shè)計(jì)了保護(hù)5000W和10KW探頭的帶有shutter的保護(hù)罩，以保護(hù)您昂貴的功率探頭免受污染。這種保護(hù)裝置可以有效的保護(hù)探頭表面的吸收層免受加工材料碎片的污染和損壞。保護(hù)罩可以在電磁操控下，隨時(shí)開啟和關(guān)閉快門。保護(hù)罩需要通過探頭前邊的法蘭和探頭連接在一起。型號(hào)5000W、10KW帶有Shutter的保護(hù)罩（a）使用保護(hù)探頭免受加工過程材料碎屑的污染支持探頭5000W和...

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FPD在線光譜式測試應(yīng)用特點(diǎn)

光譜式測量為CCFL、LED背光LCD及OLED等平板顯示技術(shù)提供了zui高精度的亮度、色度測量?，F(xiàn)有的光譜式測量的主要不足是需要很長的測試時(shí)間。PhotoResearch的A-TAKT™系列光譜式輻射度計(jì)彌補(bǔ)了這一不足，實(shí)現(xiàn)了光譜式精度的實(shí)時(shí)產(chǎn)線測試。A-TAKT™系列包含三款——V-7HS、V-7WD和V-6AQL，針對FPD產(chǎn)線測試不同測試應(yīng)用。具有如下總的特點(diǎn)：特點(diǎn)優(yōu)勢采用制冷型CCD探測器有效抑制暗噪聲及雜散光；可調(diào)取、使用測試對象的圖像，不...

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Andorx射線探測方案

直接和間接探測針對不同的x射線應(yīng)用，不管是影像，還是光譜，Andor都可以提供全面的CCD探測系統(tǒng)。根據(jù)應(yīng)用和能量不同，這些系統(tǒng)可以放置在真空內(nèi)使用，或者通過法蘭和真空腔相連，也可以是單獨(dú)使用。另外，如果您的應(yīng)用需要對x射線進(jìn)行間接探測，Andor也可以提供各種光纖耦合的CCD相機(jī).Andorx射線探測方案有益于如下各種應(yīng)用：X射線/中子斷層掃描X射線光譜X射線顯微X射線光斑檢測X射線衍射X射線平板印刷術(shù)X射線地形學(xué)等離子體研究醫(yī)療影像湯姆森散射X射線可以大致可以分為幾個(gè)范圍...

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THz成像技術(shù)介紹

THz成像技術(shù)是THz技術(shù)發(fā)展的重要方向之一，在國防、安檢、材料、生物和醫(yī)療領(lǐng)域都有著重大意義。目前THz成像技術(shù)主要分為：掃描成像和THz面陣探測器直接成像，但是這兩種方式都面臨著重大的技術(shù)挑戰(zhàn)。首先，THz掃面成像，這種方式多應(yīng)用在時(shí)域光譜領(lǐng)域中，掃面成像需要的時(shí)間較長，無法實(shí)時(shí)成像，且隨著空間分辨率的提高及掃描面積的加大，所需要的時(shí)間越長，使得這種方式的發(fā)展在很多應(yīng)用中受到限制，如國防、安檢、生物醫(yī)療等；另該方式產(chǎn)生的THz輻射較弱，相應(yīng)的穿透力較弱，且由于水對于THz...

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